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維控HMI和PLC在曝光機的應用

維控HMI和PLC在曝光機的應用

維控HMIPLC在曝光機的應用

一、簡介     曝光機是指:通過開啟燈光發(fā)出UVA波長的紫外線,將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質的表面上的設備。 二、工作原理     LED平行光曝光機它的控制系統(tǒng)用到了三臺伺服電機和兩臺步進電機,PLC采用維控LX2N-MT4H,可以輸出4路高速脈沖,PLC這邊主要控制框架的來回定位以及上下燈光的定位,總共需要控制三臺伺服,另外兩臺步進電機則控制兩路攝像頭的定位,由單片機發(fā)脈沖控制。因此PLC這邊的工作還需要跟單片機進行通訊,實現信號的共享。 三、程序介紹       1、操作畫面:操作畫面顯示了曝光燈的運行速度,框架當前的相對位置以及曝光燈的運行動畫。

    

    2、能量設定:在這個畫面可以分別設定幾組曝光燈的運行速度,做配方使用。

    

    3. 

    框架回原點程序:x11是框架原點x10是框架極限,按動復位或者開機后框架自動找原點,分兩種情況,第一種:框架感應部位本身在原點前面則執(zhí)行一次dzrn找到原點。第二種:框架感應部位在原點和極限之間則框架往極限方向運動碰到極限后往前移動一段距離,該距離大于極限和原點的間隔,之后再執(zhí)行一次dzrn回到原點。

     4、工程設計要點:     (1)每一次開機或者復位需找準原點方便之后的框架定位。     (2)兩個框架的相對位置需時刻記住,避免方向錯誤相撞。

    (3)由于外部的幾個按鈕很容易被誤操作:真空、前進、對位、抬框、以及單片機發(fā)過來的信號需要進行各自互鎖,須列出個組合表格,避免一些錯誤的組合而產生錯誤的動作。比如前進時抬框、真空無效,抬框時前進無效,單片機發(fā)過來的信號等待。等等.

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